第151章 神奇的去离子水（1/5）

七个人挨个聊了一遍，最后仓耀祖找上了杰克袁，他主要是要交代杰克袁一些事，仓耀祖希望杰克袁联络一下加州大学伯克利分校的胡正明教授。

胡正明被半导体行业誉为“ffet之父”，仓耀祖找上他，正是要委托他研究一下ffet技术，目标是解决25纳米之后半导体器件的微细化问题，这个技术的专利仓耀祖必须拿在手里，ffet技术的细节仓耀祖会整理出一个文档交给胡正明教授，想必这项技术的研发就不会拖那么久了，今年就应该能搞定。

仓耀祖还想以这个研发项目为由，让胡正明教授去燕都一段时间，仓耀祖希望能把胡正明老爷子请去清微半导体担任技术负责人。

胡正明教授前几年还是清大的荣誉教授，仓耀祖希望这次把合作夯实再夯实，把合作深入下去，而不是浮于表面。要知道挖到胡正明教授，不止在技术上好处多多，仓耀祖非常想挖的一个人就是胡教授的关门弟子梁孟松。

梁孟松是湾湾人，研发实力超强，号称半导体行业的吕布，之所以叫吕布，自然是因为他多次叛门跳槽，台积电、三星、华芯国际都留下了他的传说。

现在的梁孟松在台积电并没有那么醒目，还没出什么成绩，把他挖到清微半导体或者山腰科技都是不错的选择，反正留给台积电或者三星可就是严重资敌了，那可就十分不好了，仓耀祖可不想给自己增加难度。人情、金钱、股份齐上，不惜代价也要拿下他啊。

除了胡正明教授这个ffet之父外，仓耀祖想要挖的还有两个人，一个是华夏刻蚀机之父尹志尧，一个就是林本坚。

刻蚀机不说了，虽然没有光刻机重要，但也是半导体行业不可或缺的重要设备。光刻机、刻蚀机和薄膜沉积设备是芯片制造过程中的三大核心设备，如果把芯片比作一幅平面雕刻作品，那么光刻机是打草稿的画笔，刻蚀机是雕刻刀，沉积的薄膜则是构成作品的材料。

光刻的精度直接决定了元器件刻画的尺寸，刻蚀和薄膜沉积的精度则决定了光刻的尺寸能否实际加工，因此光刻、刻蚀和薄膜沉积设备是芯片加工过程中最重要的三类主设备。