第151章 神奇的去离子水（2/5）

那一世，直到2004年尹志尧才回国创建了中微半导体，这一世，仓耀祖希望提前促成这件事情，嗯，缺人挖人，缺钱投钱，砸也砸出一个刻蚀机头部企业。

而林本坚，他就是那一世台积电如厮强横的一大保证了，仓耀祖教给清微半导体的浸入式光刻技术就是林本坚提出并坚持推动的结果。

其实浸入式光刻技术在1984年就由日本人takanashi在一项美国专利中提出了，他定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。

发明专利的时效只有20年，只可惜这项专利诞生的“过早”，前世真正意义上的浸入式光刻要在若干年后才会出现，takanashi也因此与巨额专利费擦肩而过。

但这一世呢，仓耀祖已经让葛栗琴的律师事务所买断了这个专利，虽然专利时效只有不到8年了，但8年时间也足够了。

现在的浸入式光刻之所以不被重视，是因为人们找不到好的浸入液，比如浸入液是环辛烷的话。浸入液的充入、镜头的沾污、光刻胶的稳定性和气泡的伤害等关键问题很难解决，因此，人们对浸入式光刻并没有什么深入的研究。

现在的主流技术是干式光刻，无论是尼康、佳能还是阿斯麦都是如此。如果能找到好的浸入液，那么，在高端光刻领域，浸没式光刻就是干法光刻的完美替代技术，而新旧技术的替代带来的就是光刻机的完全垄断。

林本坚在2002年后提出了以折射率为1.44的去离子水为浸入液的方案，比较完美地解决了浸入式光刻的其它问题，此举彻底改变了光刻行业以及整个半导体行业。这是一项很伟大的改进，可以说，打败尼康光刻机和佳能光刻机的就是这简单而又神奇的去离子水。

什么是去离子水呢，就是去除了离子的水。因为水是一种万能的溶剂，在自然界的水中会溶解有很多种类的盐类，而这些盐类在水中均有一定程度的电离现象，从而产生很多种类的阴阳离子。所以，溶解了盐类物质的水是可以导电的，这不利于光刻的进行。